কারখানার পাইকারি লেজার ইয়াগ ট্যাটু এনডি সিই ইয়াগ ক্রিস্টাল ইয়েলো রড
Nd Ce YAG লেজার স্টিক ক্রিস্টাল রড AR/ AR 1064nm
Nd:Ce:YAG একটি চমৎকার লেজার উপাদান যা নো-ওয়াটার কুলিং এবং ক্ষুদ্র লেজার সিস্টেমের জন্য ব্যবহৃত হয়।এর তাপীয় বিকৃতি
Nd:Ce:YAG প্রশংসনীয়ভাবে কম এবং আউটপুট লেজার শক্তি বেশি (30%-50%) একই পাম্পিং এ Nd:YAG এর তুলনায়।এটা
এয়ার কুলিং লেজারের জন্য সবচেয়ে আদর্শ লেজার উপাদান এবং এটি অপারেশনের বিভিন্ন মোডের জন্যও উপযুক্ত (স্পন্দিত, কিউ-সুইচড, মোড)
লক) এবং উচ্চ-গড় শক্তি লেজার।
পণ্যের বৈশিষ্ট্য
1. নিম্ন প্রান্তিক
2. খুব উচ্চ ঢাল দক্ষতা (Nd:YAG এর চেয়ে 30%-50% বেশি)
3. ভাল বিরোধী UV বিকিরণ সম্পত্তি
4. ভাল তাপ স্থায়িত্ব
বৈশিষ্ট্য
| একাগ্রতা | Nd:0.1~1.4at%, Ce:0.05~0.1at% |
| ওরিয়েন্টেশন | <111>±5° |
| ওয়েভফ্রন্ট বিকৃতি | ≤0.1λ/ইঞ্চি |
| বিলুপ্তির অনুপাত | ≥25dB |
| মাপ | Ø≤50mm, L≤150mm |
| বিভিন্ন রড, স্ল্যাব এবং ডিস্ক, ইত্যাদি কাস্টমাইজ করা হয় | |
| সহনশীলতা | Ø:+0.00/-0.05mm, L:±0.5mm |
| নলাকার যন্ত্র | ফাইন গ্রাইন্ডিং, পলিশিং, গ্রুভিং |
| সমান্তরালতা | ≤ 10" |
| লম্বতা | ≤ 5' |
| সমতলতা | λ/10 @632.8nm |
| পৃষ্ঠের গুণমান | 10-5 (MIL-O-13830A) |
| চেম্ফার | 0.15±0.05 মিমি |
| আবরণ | S1/S2:R≤0.2%@1064nm |
| S1:R≤0.2%@1064nm, S2:PR=20-80%@1064nm | |
| S1:PR=20-80%@1064nm, S2:HR≥99.8%@1064nm | |
| অন্যান্য আবরণ কাস্টমাইজ করা যেতে পারে | |
| ক্ষতি থ্রেশহোল্ড | ≥5J/cm2@1064nm, 10ns 10Hz |
| লেজার তরঙ্গদৈর্ঘ্য | 1064nm |
| ডায়োড পাম্প তরঙ্গদৈর্ঘ্য | 808nm |
| প্রতিসরাঙ্ক | 1.8197@1064nm |
| বিশেষ স্পেসিফিকেশন | মেটালাইজেশন, ওয়েজেস, ব্রুস্টার অ্যাঙ্গেল, অবতল/উত্তল প্রান্তের দিকে |
পণ্য দেখানো হয়েছে
এখানে আপনার বার্তা লিখুন এবং আমাদের পাঠান
